- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/00 - Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/00
Brevets de cette classe: 1484
Historique des publications depuis 10 ans
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84
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26
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15
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4
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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ASML Netherlands B.V. | 6816 |
91 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
88 |
Hoya Corporation | 2822 |
82 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
64 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
46 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
45 |
Micron Technology, Inc. | 24960 |
39 |
Samsung Display Co., Ltd. | 30585 |
31 |
Kioxia Corporation | 9847 |
29 |
Synopsys, Inc. | 2829 |
24 |
Carl Zeiss SMS GmbH | 56 |
22 |
Texas Instruments Incorporated | 19376 |
21 |
Nikon Corporation | 7162 |
21 |
Carl Zeiss SMT GmbH | 2646 |
20 |
GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6459 |
18 |
LG Chem, Ltd. | 17205 |
17 |
FUJIFILM Corporation | 27102 |
17 |
United Microelectronics Corp. | 3921 |
17 |
Au Optronics Corporation | 3880 |
17 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
16 |
Autres propriétaires | 759 |